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本文標(biāo)題："合金電鍍層的相結(jié)構(gòu),鍍層的微觀結(jié)構(gòu)檢驗(yàn)顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2015-6-8 22:25:41 本站主頁地址：http://m.mhzljd.cn
但現(xiàn)代的高科技應(yīng)用，要求對鍍層中各種元素進(jìn)行精細(xì)的化學(xué)分析。已經(jīng)
清楚的是，哪怕電解液中存在極少量的有機(jī)雜質(zhì)，也能對鍍層的微觀結(jié)構(gòu)與物理
特性產(chǎn)生顯著性影響。在確定微觀結(jié)構(gòu)與雜質(zhì)含量之間的關(guān)系時(shí)，雜質(zhì)成分信息
顯得至關(guān)重要。例如，氫是鍍層中常見的輕元素之一，氫不僅改變某些金屬的微
觀結(jié)構(gòu)，也能使其力學(xué)性能發(fā)生變化。此外，氫與鍍層內(nèi)殘余應(yīng)力和裂紋的產(chǎn)生
也密切相關(guān)
簡要概括一下OT概念：高過電位下沉積速率將變得很快，于是亞原子濃度
隨之增加，促使更多的晶核形成，晶粒得以細(xì)化，結(jié)晶細(xì)致導(dǎo)致鍍層表面光滑。
反之，低過電位下，沉積速率慢，晶粒有充分時(shí)間長大。粗大晶粒的形成，造成
了粗糙表面的發(fā)展。換言之，OT理論假定了表面粗糙度受晶粒大小支配。這個(gè)
假定表觀上合理，但事實(shí)上增高過電位未必能促使晶粒細(xì)化。例如，采用脈沖電
鍍技術(shù)可以達(dá)到很高的過電位，不免以為借之可獲取微晶或非晶鍍層(Ohno和
在上述實(shí)驗(yàn)研究中，觀察到一個(gè)普遍性傾向：如果構(gòu)成二元合金的都屬于低
熔點(diǎn)金屬，且彼此在整個(gè)成分范圍內(nèi)都具有互溶性，則該二元合金電鍍層的相結(jié)
構(gòu)將與其平衡相圖上所給出的一致，與電鍍規(guī)范無關(guān)。然而如果合金系中包含了
高熔點(diǎn)金屬，且可形成金屬間化合物，則該合金電鍍層的相結(jié)構(gòu)通常與其平衡相
圖發(fā)生差異而變得復(fù)雜。個(gè)中差異表現(xiàn)為：所預(yù)期的金屬間化合物消失，介穩(wěn)相
或非晶相的形成，以及過飽和固溶體的生成。當(dāng)合金鍍層存在介穩(wěn)相，X射線衍
射峰的分析往往變得復(fù)雜。在熱力學(xué)上，介穩(wěn)相是不穩(wěn)定的，可以通過熱處理使
之轉(zhuǎn)化為穩(wěn)態(tài)相。
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