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本文標(biāo)題："蒸發(fā)和刻蝕制造工藝機(jī)械強(qiáng)度樣品加工材料顯微鏡"
新聞來(lái)源：未知 發(fā)布時(shí)間：2016-8-31 12:24:23 本站主頁(yè)地址：http://m.mhzljd.cn
蒸發(fā)和刻蝕制造工藝機(jī)械強(qiáng)度樣品加工材料顯微鏡
場(chǎng)發(fā)射性能
場(chǎng)發(fā)射是指電子自固體表面逃逸到真空的量子力學(xué)隧穿現(xiàn)象。在外
加電場(chǎng)作用下，固體的表面勢(shì)壘被壓低減薄，使電子有一定幾率穿透這
一勢(shì)壘至真空。從固體中發(fā)射電子分為熱電子發(fā)射、光電子發(fā)射和次級(jí)
電子發(fā)射三類(lèi)，這些均需要給電子提供大于逸出功的額外能量才能發(fā)生
。場(chǎng)電子發(fā)射的特點(diǎn)是無(wú)需給電子提供額外能量就能發(fā)射出來(lái)。典型的
場(chǎng)發(fā)射應(yīng)用實(shí)例是冷陰極，冷陰極具有電子能量分布窄、耗能低、穩(wěn)定
性高等特點(diǎn)，被廣泛用于顯示器電子槍、掃描電鏡電子槍、微波功率放
大器等領(lǐng)域。作為理想的場(chǎng)發(fā)射體材料應(yīng)滿(mǎn)足以下幾個(gè)要求：①發(fā)射體
材料易于發(fā)射電子；②發(fā)射體材料是高熔點(diǎn)材料，因?yàn)榘l(fā)射體工作時(shí)通
過(guò)的電流密度很大，容易使局部溫度過(guò)高；③發(fā)射體材料化學(xué)穩(wěn)定性好
，因?yàn)榘l(fā)射體工作時(shí)局部溫度較高，易與器件內(nèi)殘余氣體反應(yīng)，為了保
證發(fā)射體正常工作，必須要求選用化學(xué)穩(wěn)定性好的高熔點(diǎn)材料；④發(fā)射
體材料具有一定的耐離子轟擊能力，因?yàn)榘l(fā)射體工作時(shí)器件內(nèi)殘余氣體
電離產(chǎn)生正離子，并與發(fā)射體陰極轟擊碰撞，降低發(fā)射體使用壽命。
目前，場(chǎng)發(fā)射體材料的制造工藝通常以蒸發(fā)和刻蝕等為主。根據(jù)使
用條件不同，將其制作成單個(gè)發(fā)射體或發(fā)射體陣列，并使其端部具有微
尖結(jié)構(gòu)。碳納米管等一維納米材料本身就具備場(chǎng)發(fā)射應(yīng)用所需的尺寸要
求，綜合考慮熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性及機(jī)械強(qiáng)度等因素，碳納米管等一維
納米材料有望部分或全部取代目前的硅材料成為新一代場(chǎng)發(fā)射材料。
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