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本文標(biāo)題："工藝上對(duì)拋光表面光亮度制件檢測(cè)顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2016-11-9 1:38:31 本站主頁地址：http://m.mhzljd.cn
工藝上對(duì)拋光表面光亮度制件檢測(cè)顯微鏡
工藝上對(duì)拋光表面光亮度要求較高的制件，其前處理工藝，是
機(jī)械拋光一電解拋光。
工藝上對(duì)拋光表面光亮度要求一般的制件，可選用一般純鋁(9
9％以上)及鋁—鎂合金，這時(shí)可只做機(jī)械拋光預(yù)處理。
配方21是一個(gè)應(yīng)用范圍較廣的拋光工藝。拋光的最佳溫度
為110℃一120℃。拋光作業(yè)實(shí)際控制的溫度，應(yīng)隨著溶液使用次數(shù)
的增多而逐漸升高，使越來越黏稠的拋光溶液具有較高的對(duì)流和擴(kuò)
散能力。在補(bǔ)充拋光溶液(因使用較久而逐漸喪失拋光性能)的同時(shí)
，還應(yīng)盡量減少被拋光制件表面黏附的拋光溶液，以免降低工藝損
耗，而且更便于水沖洗。反之，若不及時(shí)提高拋光溶液的使用溫度
，就會(huì)發(fā)生黏稠的拋光液比較牢固地黏附在拋光表面，造成水洗困
難，而且會(huì)使拋光表面發(fā)烏，或形成一層白色(或藍(lán)灰色)膜，影響
拋光表面的光澤。
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