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本文標(biāo)題："光譜檢測(cè)工業(yè)顯微鏡痕量分析儀器"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2017-12-24 0:32:35 本站主頁(yè)地址：http://m.mhzljd.cn
光譜檢測(cè)工業(yè)顯微鏡痕量分析儀器
譜檢測(cè)方法為近紅外光譜技術(shù)。雖然近紅外光譜吸收強(qiáng)度和靈
敏度都比較低，在痕量分析領(lǐng)域具有挑戰(zhàn)性，使用近紅外光譜技術(shù)
檢測(cè)含量在103次方以下物質(zhì)的近紅外光譜檢測(cè)技術(shù)的可行性研究
較少，但在理想條件下，只要樣品在近紅外光譜下可以提取到光譜
數(shù)據(jù)，并且借助于化學(xué)計(jì)量學(xué)在近紅外光譜分析中的應(yīng)用，使用近
紅外光譜技術(shù)分析微量農(nóng)藥殘留量是可能的。并且，隨著近紅外光
譜分析技術(shù)的不斷改進(jìn)，近紅外光譜儀信噪比可高達(dá)105，利用其
性能和精確度的不斷提高，近紅外光譜分析技術(shù)應(yīng)用于食品農(nóng)藥殘
留污染方面的檢測(cè)研究在一定程度上得到了進(jìn)一步的發(fā)展。
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