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本文標(biāo)題："微光學(xué)元件之制作與測(cè)量-測(cè)量顯微鏡價(jià)格!"

在微直角錐反射鏡方面，我們對(duì)反射鏡所制做的路標(biāo)其對(duì)比度會(huì)比

傳統(tǒng)的涂漆式路標(biāo)其對(duì)比度要好上 1.64﹪~4.12﹪，因此可以證明

出微光學(xué)反射直角稜鏡的確優(yōu)于傳統(tǒng)式的路標(biāo)。在微透鏡方面，我

們完成微米（μm）級(jí)的微小光學(xué)元件的設(shè)計(jì)與制作，而微透鏡陣列

光點(diǎn)收斂的聚焦點(diǎn)直徑也略大于繞射極限。在其它微光學(xué)元件方面，

我們也制作出微光柵繞射元件以及各種微柱狀鏡，并且利用 Matlab

分析其各元件之粗糙度，包括以小波函數(shù)轉(zhuǎn)換，目的只為了加強(qiáng)我

們微光學(xué)元件的實(shí)用性。未來將朝非球面鏡制作，并研究如何設(shè)計(jì)

更準(zhǔn)確地控制加工深度，及如何研磨微光學(xué)元件，使本系統(tǒng)朝向更

高解析度之制程邁進(jìn)，以滿足將來更高品質(zhì)之光學(xué)微系統(tǒng)需求。

本文中介紹的新穎 LIGA-like 微加工技術(shù)，目前已整合在

激光光刻電鑄及模造技術(shù)中，近年來準(zhǔn)分子激光加工技術(shù)，由于其

相較于一般蝕刻技術(shù)擁有較精確和較高深寬比（aspect ratio）的

特性，且相較于電子束和 X-ray 光刻（lithography）技術(shù)在成本

效益的考量上便宜許多，已廣泛地應(yīng)用在許多微小結(jié)構(gòu)加工成型與

微細(xì)裝置光刻上。以準(zhǔn)分子激光作為微光學(xué)陣列元件之制程技術(shù)，

既快速又準(zhǔn)確，足以取代現(xiàn)行之標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體制程模式，而且更短波

長（193nm）之準(zhǔn)分子激光加工系統(tǒng)，目前也純熟地不斷被開發(fā)出來，

未來更具彈性之微光學(xué)設(shè)計(jì)制作環(huán)境逐漸地實(shí)現(xiàn)。

此外，未來在 DVD 讀寫頭（picked up head）、激光二極體陣列

（diode laser arrays）、偵測(cè)器陣列（detector arrays）、光計(jì)算

（optical computing）、光連接（optical interconnection）與光

通訊（optical communication）等等應(yīng)用或結(jié)合平面光學(xué)

（planar-optics）與固態(tài)激光在微光電系統(tǒng)上將有更彈性之設(shè)計(jì)空

間與應(yīng)用領(lǐng)域等待開發(fā)，尤其在消費(fèi)性光電子產(chǎn)品中的CGH（computer

generated holograms）或 DOE（diffractive optical elements）

更迫切地需要以塑膠射出、壓克力壓膜、樹脂翻制等大量制造微光

學(xué)元件與系統(tǒng)組件時(shí)，準(zhǔn)份子激光微加工制程方式提供了迅速、彈

性與廉價(jià)等優(yōu)勢(shì)。