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本文標題："氮化鋁鈦的鋁濃度范圍為不小于70%-顯微鏡常識"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2013-2-24 19:41:50 本站主頁地址：http://m.mhzljd.cn
運用射頻磁控濺鍍系統(tǒng)，將欲成長的兩種保護性硬魔之薄膜結構：碳化鎢及矽基板 -氮化鋁鈦，以及碳化鎢及矽基板-氮化鋁（中介層）-氮化鋁鈦，
以反應性濺鍍的方式成長。相對于真空電弧鍍膜，射頻磁控濺鍍的優(yōu)點在于擁有較佳的表面平整度，且可精確控制薄膜厚度，有較一致性的披覆效果，
且對于基板有較佳的附著性。
氮化鋁鈦的鋁濃度范圍為不小于70%。在這兩種薄膜結構成長完成之后，施予不同溫度下的真空退火處理，使其產生相變化。
而在退火前后的硬度、附著力、表面粗糙度等則分別藉由奈米硬度機、刮痕試驗機、原子力顯微鏡量測之。
構橫切面電子顯微鏡術可以詳細的研究整個薄膜的微結構的轉變以及介面接合區(qū)，
本研究以高解析電子顯微鏡詳細研究薄膜結構的變化，并將觀察結果連結到機械性質。
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