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本文標(biāo)題:"固態(tài)層覆蓋摻雜物截面分析便攜式顯微鏡"

新聞來(lái)源:未知 發(fā)布時(shí)間:2017-6-14 1:52:37 本站主頁(yè)地址:http://m.mhzljd.cn

固態(tài)層覆蓋摻雜物截面分析便攜式顯微鏡

    在擴(kuò)散過(guò)程中,規(guī)則的晶格原子被熱動(dòng)力平衡過(guò)程中的摻雜原
子所代替。這樣對(duì)改變半導(dǎo)體的電子性能有作用。進(jìn)行摻雜的兩個(gè)
最重要的方法是恒定表面濃度擴(kuò)散和恒定總摻雜物擴(kuò)散。
    在“恒定的表面濃度的擴(kuò)散”方式下,摻雜物由“不可耗盡的
”氣源供給,因此晶體外表面摻雜物的濃度,在整個(gè)擴(kuò)散過(guò)程中保
持恒定。在“恒定總摻雜物擴(kuò)散”方式下,晶體表面開(kāi)始由摻雜物
的固態(tài)層所覆蓋。可是摻雜物的供應(yīng)是有限的,因?yàn)殡S著擴(kuò)散的進(jìn)
行摻雜物最后會(huì)耗盡。
    在“恒定表面濃度擴(kuò)散”方式下,摻雜物原子由氣相供應(yīng),晶
體表面的摻雜物濃度可以調(diào)節(jié),在給定溫度下,特殊摻雜物的濃度
與其在硅中的溶解度相對(duì)應(yīng)。
    (a)恒定表面濃度的擴(kuò)散;(b)恒定總摻雜物的擴(kuò)散;(c)離子
注入
    如果在硅片表面上摻雜層的厚度為dx,摻雜層的面積為A,由
于總摻雜物濃度是恒定的,并且在給定時(shí)間單元內(nèi)可以擴(kuò)散入固相
的粒子數(shù)目

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