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本文標題："集成電路各層掩膜工藝斷口截面分析顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2018-9-30 0:42:04 本站主頁地址：http://m.mhzljd.cn
集成電路各層掩膜工藝斷口截面分析顯微鏡
陣列設計技術
通用性和半通用性的集成電路需要有非�？斓脑O計周轉時間，因而產生
了門陣列和晶體管陣列設計的思想。門陣列和晶體管陣列的特征是使圓片
通過所有各層掩膜工藝，直至金屬互連層。晶體管陣是由互聯晶體管組成
的一些基本門。將這些門相互連接起來就完成了整個電路。而在門陣列中
，作為構筑方塊的門已經形成了，要做的工作僅是簡單地把這些門連接起
來。
陣列設計技術有兩個基本步驟。第一步i是對所需電路進行邏輯模擬，
第二步，用互聯作圖設備或自動作圖系統(tǒng)來完成電路的分配和布局工作。
過去，門陣列和晶體管陣列設計技術損失了大量的硅面積。但現在已
經開發(fā)了具有更有效更復雜算法的軟件，可以大大減小這個損失。目前的C
AD系統(tǒng)已包含有產生高密度陣列婚軟件。陣列設計方法確實提供了快速周
轉時間，但由于形成陣列需要一些基本的布局工作，所以仍舊要犧牲一些
電潞面積。這種方法所需的人工干涉應保持在最低限度，主要是用于糾正
還沒有很好聯結的少部分電路。
硅器件編澤程序
基本思想就是從設計開始到結束，都對集成電路的宏觀功能和微觀功
能進行自動定義。如果這可以做封，設計所需時間就會大大縮短，由硅器
件編譯程序設計的電路具有很高的質量。
與那種需要詳細解釋細節(jié)的低級語言相比較，硅器件編譯程序相當于
高級、抽象的計算機語言。
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