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本文標題:"氧化層中機械微孔氣體斷口分析圖像顯微鏡"

新聞來源:未知 發(fā)布時間:2019-4-29 2:34:06 本站主頁地址:http://m.mhzljd.cn

氧化層中機械微孔氣體斷口分析圖像顯微鏡

    的氧化過程如方程所述,氧化層中機械或熱荷載引入的內(nèi)部應(yīng)力引起
氧化層開裂,最終剝落,使內(nèi)層裸露的銀再次暴露到原子氧中。這個過程
不斷重復,直到銀完全被氧化。氧化銀非常脆弱且多孑L,氧化物和金屬的
體積比>2,介于氧化物與金屬之間。典型的氧化層剝落深度在0.5fim左右
。這種周期性的氧化物層剝落導致銀整體按線性方式退化。在相對較短的
航天飛機飛行任務(wù)中,銀在3~4.5弘m的深度層中發(fā)生退化,具體的深度取
決于表面與速度矢量的垂直度。
    人們已建立一個氧化層模型來預測銀在ISS軌道周期中的原子氧氧化,
如圖3所示。高溫環(huán)境下氧化發(fā)展的機理是氧化層中的擴散。擴散受溫度調(diào)
控,在室溫下能觀察到大量氧化,這說明在低溫下金屬中也有一個不同的
氧化過程,或者至少是一個平行的氧化過程也在進行,低溫下金屬的氧化
過程為微孔氣體流通。
    微孔氣體運輸可以通過數(shù)種機制來實現(xiàn),包括自由分子流(Knudsen流
)、分子流、黏性流動和表面擴散。在非常低的壓力下,原子氧的平均自
由程比孑L的尺寸大,與孑L的內(nèi)壁碰撞的頻率比其他的原子氧之間的碰撞
頻率高。這一機制被稱為白由分子流機制。在低地球軌道處,氧原子的密
度大約是108原子/cm3,則平均自由程為10‘肚m,這遠遠大于預期的孔隙
尺寸。

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