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亞微米級薄膜每層厚度的精確自動檢測
發(fā)明集成電路40年來,其大規(guī)模生產制備已經變成復雜、昂貴的生
產工藝,甚至超過了生產飛機的復雜性。一個電路需要好幾十個生
產步驟,對亞微米級薄膜每層厚度的精確控制,所有電路的連接涉
及了一系列復雜的化學過程及在每一階段的自動檢測。這些工藝過
程都需要在超高潔凈的環(huán)境下進行,以保證消除最小的灰塵顆粒。
薄膜外延生長(需保證沉積層的晶格與襯底匹配一致)、蝕刻、氧化
、通過光敏沉積制備模型以控制薄膜的分布形狀,以及控制摻雜或
離子注人局域梯度擴散,所有這些,構成了這項技術的神奇和材料
科學家的技藝。建立一家生產微電子器件的工廠,如今戲稱為“鑄
造廠”,成本為數(shù)十億美元并在穩(wěn)步增長,但是由晶體管組成的集
成電路的成本卻在大幅度下降。Paul(2000)給出了一個估計,現(xiàn)在
的微處理器(功能集成電路)含有大約1100萬個晶體管,每個成本僅
為0.003美分。復雜電路的低成本使信息時代成為可能。
集成電路及其生產企業(yè)的出現(xiàn)已經使材料科學家與現(xiàn)代電子學
緊密結合,他們的任務是優(yōu)化工藝流程并解決問題。引用一個例子
,許多材料科學家研究集成電路中薄金屬導體的電子遷移問題,這
是一個最終導致短路或電路損毀的問題。在大電流密度下,電位差
驅動的電子遷移所產生的力作用在金屬離子上,可以驅使金屬離子
向陽極運動。解決這個問題的一個辦法是將鋁導線進行合適的合金
化,控制其
微觀組織結構——即控制晶粒尺寸、形狀以及織構取向
。早期關于這個問題,在材料科學層面上有一些研究(
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